现有的真空镀膜机,主要用于一些放气量较少的普通玻璃上镀膜,由于大面积有机玻璃放气量较大,热变形温度低,刚性低,因此现有的真空镀膜机无法镀制大面积有机玻璃。现有的镀膜机蒸发源间呈正方形分布,这样镀出的膜层均匀性差,无法保证大面积有机玻璃在镀制过程中不变形。为了克服现有技术之不足,提供一种真空镀膜系统,本系统由真空镀膜系统和真空手套箱系统集成而成,可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀,并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。 蒸发镀膜与真空手套箱组合,实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作,使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中,消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响,保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。真空镀膜系统用途:主要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等实验研究与应用。

真空镀膜机的原理

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